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2024-12-4 14:07| 发布者: Epona| 查看: 20| 评论: 0

摘要: 2.0.1 薄膜晶体管液晶显示器 thin film transistor liquid crystal display(TFT-LCD) 使用薄膜晶体管作为控制像素开关,采用有源矩阵直接驱动像素方式的液晶显示器。2.0.2 全自动物料搬送系统 automated material handling system(AMHS) 在一个过程或逻辑动作系统中,一系列相关的自动化设备及

2.0.1  薄膜晶体管液晶显示器  thin film transistor liquid crystal display(TFT-LCD)

    使用薄膜晶体管作为控制像素开关,采用有源矩阵直接驱动像素方式的液晶显示器。

2.0.2  全自动物料搬送系统  automated material handling system(AMHS)

    在一个过程或逻辑动作系统中,一系列相关的自动化设备及装置协调、合理地对物料进行移动、储存或控制的系统。

2.0.3  玻璃基板  glass substrate

    由表面极其平整的薄玻璃片构成的液晶显示器件的基本部件。

2.0.4  阵列  array

    在玻璃基板上通过成膜、光刻、刻蚀等半导体工艺技术,制作有规则排列的特定薄膜晶体管(开关器件)阵列,以形成数据线、存储电容和信号线的工艺。

2.0.5  彩膜  color filter(CF)

    在透明基板上依规则排列红、绿、蓝三基色的图形,只能使所需要的色光通过的滤光片,又称彩色滤色片。

2.0.6  成盒  cell

    将已制备好的薄膜晶体管液晶显示器阵列玻璃基板和彩色滤光片玻璃基板组装到一起,使两块玻璃基板之间充有液晶材料,加上适应的电场即可进行图像显示的液晶盒(屏)的工艺过程。

2.0.7  空间管理  space management

    为有效利用空间、缩短工作流程,对大到整个厂区的建筑物布局、地下管线规划,小到一栋建筑物内部各个专业间的配置协调而进行的设计。

2.0.8  干法刻蚀  dry etching process

    在气相中对基板表面、被蚀刻物质进行刻蚀的方法。

2.0.9  等离子体增强化学气相沉积  plasma enhanced chemi-cal vapor deposition(PECVD)

    利用等离子体的活性促进反应,能在较低温度下进行化学气相沉积法的反应。

条文说明

2.0.1  为满足液晶显示器多路驱动性能,在每个显示像素位置制作一个薄膜场效应三极管(薄膜晶体管),通过对薄膜场效应管的控制,控制驱动液晶显示器的像素,可大大改善液晶显示器性能。薄膜晶体管液晶显示器是一种三端有源器件,a-Si-TFT-LCD是目前技术最为成熟、生产规模最大的平板显示器件。薄膜晶体管液晶显示器是一种可以实现视频、真彩、高品质图像显示的液晶显示器,在手机、个人掌上电脑、车载导航仪、笔记本电脑、个人台式电脑、高清晰度电视以及公共显示中被广泛采用。

2.0.3  玻璃基板应具有平整、耐热、化学性能稳定以及良好的机械和物理特性。工业化生产的玻璃基板已由20世纪90年代初的第1代发展到现在的第8代甚至第10代。增大玻璃基板尺寸的主要目的是为了提高生产效率,降低成本,也为生产更大尺寸的显示产品创造条件。各世代玻璃基板尺寸见表1。

表1  各世代玻璃基板尺寸一览表

2.0.5  彩膜目前多采用颜料分散法在基板上制作红、绿、蓝三基色点阵,在三基色其间镶嵌有黑矩阵,在三基色点阵上制作ITO(掺锡氧化铟)透明薄膜电极。

2.0.7  空间管理宏观上理解可以大到整个厂区的规划,包括厂区建筑物布局,地下管线规划,小到一栋建筑物内部各个专业间的配置协调。

    液晶显示器工厂由于投资大,成本高,在空间管理上应力求空间合理布局、平面合理分区,并充分利用空间的原则。

    空间管理概念贯穿整个设计和施工建造过程,控制施工安装尽量避免公用设施系统的各组成设备以及服务路线的冲突。


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